超聲波清洗技術的最新發展
1、高頻超聲清洗
對于象硅片表面小至零點幾微米的超微污物粒子，常規的超聲波清洗器無能為力，即使增加功率密度也無濟于事。近年來發展了一種兆赫茲級的高頻超聲清洗技術，由于頻率高，空化效應已不起作用，因此清洗的關鍵不是氣泡，是高頻壓力波的擦洗作用，其對污物的去除率接近百分之百。高頻清洗進來發展較快，主要用于超大規模集成電路芯片上的污物清洗，以及硅晶片、陶瓷、光掩模等特種污物的清洗。

2、聚焦式清洗
對于象紡織行業的噴絲板、過濾器之類微孔物件的清洗，常規的超聲波清洗機清洗效果十分不理想，聲強達不到要求，而采用機械掃描聚焦式超聲清洗，噴絲板微孔中的污物脫離十分明顯。聚焦式清洗要求達到高的聲強，目前選用的頻率以低頻為主，常用 20kHz和15kHz兩種頻率，個別的頻率也有28kHz的，其電功率在連續波情況下一般為500～700W，間隙脈沖工作狀態下，功率可高一些。